– 国内专用-
光掩模的清洁化是提高产品成品率的必要条件！ 本发明公开了一种光掩模，该光掩模是通过在玻璃等上形成用于半导体制造工艺的图案而获得的，该光掩模的表面上附着有细小的灰尘等，该光掩模是通过在玻璃等上形成用于半导体制造工艺的图案而获得的。需要先进的清洁技术，因为粘附的灰尘和污物影响图案转移，并在很大程度上影响产量。
科技視野的光掩膜清洗装置是用一台擦洗、冲洗、干燥来清洗附着在光掩模上的灰尘和污垢的掩模清洁器。为了满足来自各种客户的要求，我们公司推出了支持从小尺寸到大尺寸的各种光掩膜、TWE-200、TW-300、TW-700、TW-1000。
| 掩模尺寸 | 1,300mm × 1,700mm |
|---|---|
| 设备尺寸 | 17,200mm(W) × 1,200mm(D) × 2,700mm(H) |
■关键特性
| 特点 | |
|---|---|
| 1 | 用一台设备快速完成工件的擦洗，漂洗和干燥。 |
| 2 | 用擦洗清洗专用刷子，不划伤工件，可以进行精密清洗，没有清洗不均匀。 |
| 3 | 因为是立式处理，所以设计时不会给工件带来压力。 |
| 4 | 小批量，多品种，最适合研发应用的基板清洗。 |
光掩模:半导体，液晶，有机EL，彩色滤光片，薄膜器件，IC封装，PWB，PCB，FPC等，板状基板等可清洗。