フォトマスク洗浄装置：TW-300

フォトマスク洗浄装置　TW-300

フォトマスクのクリーン化は、製品歩留まり向上の必須条件！
半導体製造工程で使用されるパターンをガラス等に形成し原版とするフォトマスクには、表面に微細なゴミ等が付着します。付着したゴミや汚れはパターン転写時に影響を及ぼし、歩留りを大きく左右するため、高度な洗浄技術が求められています。

テクノビジョンのフォトマスク洗浄装置は、スクラブ洗浄・リンス・乾燥を一台で行いフォトマスクに付着したゴミや汚れを洗浄するマスククリーナーです。弊社では多様なお客様からのご要望にお応えするため、スモールサイズからラージサイズまでの幅広いフォトマスクに対応した洗浄装置、TWE-200、TW-300、TW-700、TW-1000をご提供しています。

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仕様

マスクサイズ	360mm × 460mmまで
装置寸法	1,070mm（W） × 700mm（D） × 1,815mm（H）
作業高さ	1,200mm
重量	280Kg

特長

■主な特長

	特長
1	ワークの【スクラブ洗浄・リンス・乾燥】を一台の装置でスピーディーに実施。
2	スクラブ洗浄用特殊ブラシにてワークに傷を付けず、洗浄ムラなく精密洗浄可能。
3	縦型処理の為、ワークにストレスがかからない設計。
4	少量多品種、R&D用途の基板洗浄にも最適な仕様。
5	各サイズ専用ワークホルダーの用意とフリーサイズ対応ワークホルダーを用意。また、ワーク接触部分は､樹脂にて対応。