UV(紫外线)臭氧清洗装置是指照射特定波长的紫外线生成臭氧(O3),利用该生成的臭氧使有机化合物氧化、分解,从而进行工件表面的有机物污染的除去、表面改性的UV臭氧清洗装置。
紫外线(UV)臭氧紫外UV-208、UV-312在UV光源中采用了高密度网格形状的低压水银灯。
采用高密度网格状灯，可均匀照射整个工作区域。
| 照射区域 | 308mm x 308mm |
|---|---|
| 电源 | 交流100V 10A 50或60Hz（其它电压可用） |
| 设备尺寸 | 505mm(W) x 616mm(D) x 320mm(H) |
| 重量 | 41kg |
| 特点 | |
|---|---|
| 1 | 使用高密度UV栅格灯。 |
| 2 | 对工作表面照射均匀。 |
| 3 | 节省空间、紧凑设计。 |
| 4 | 简单的实用程序。 |
| 5 | 易于操作，内置安全功能。 |
通过臭氧清洗和UV（紫外线）照射的表面改性，表面上的污垢（疏水性）被去除和清洗，润湿性（变成亲水性）（水滴扩散）。
润湿性的变化可以通过液体与固体表面接触时的接触角的变化（减小）来确认。润湿性的改变也会导致附着力的提高。
■水滴扩散引起的润湿性和接触角的变化
■润湿性变化
■接触角变化
| 处理条件 | |
|---|---|
| 照射时间 | 5分钟/辐射距离:10毫米 |
| 照射装置 | UV-208/辐照样品:Si晶片 |
| 用途 | |
|---|---|
| 1 | 清洗半导体晶片，光掩模，玻璃基板和光学元件。 |
| 2 | 树脂零件的表面改性。 |
| 3 | 以提高粘附性，涂层，印刷，气相沉积，焊料等的粘附性。 |
| 4 | 改善工作表面的润湿性。 |
| 臭氧生成 | 大气中的氧气（O2）吸收波长为184.9 nm的紫外线，生成臭氧（O3） |
|---|---|
| 臭氧分解 | 产生的臭氧（O3）还能吸收波长为253.7 nm的紫外线，产生O2和活性氧（O*） |
| 有机物分解（清洗、表面改性） | 非常不稳定的活性氧（O*）与有机化合物结合，氧化分解为H2O，CO2，NOx等气体（与有机化合物结合，进行清洗和表面改性）。 |
