– 国内专用-
全自动光掩膜清洗装置《TWC-304A》是一下子完全去除附着在掩模上的1μm以上的颗粒和抗蚀剂残渣的盒的全自动光掩膜清洗装置。
干燥采用的是热纯水干燥，而不是传统的气刀干燥，这是一种免调节的设计，省去了由于水飞溅引起的调节的麻烦。 热纯水干燥
对应的面罩尺寸，最多14英寸。设置2个能够放置5张的专用盒,进行自动运转。
| 电源 | 交流200V3相 |
|---|---|
| 尺寸 | 1,800mm(W) × 1,370mm(D) × 2,150mm(H) |
| 重量 | 约650公斤 |
・轻松去除附着在掩模上的抗蚀剂
・轻松移除蒙版上的粒子
・清洗液开发对环境友好的温和的水溶性药液
・从热硫酸和硫酸过水等危险中解脱出来
・不需要昂贵的去除剂和显影液
■设计规则L/S（线和空间）最适合清洗1微米或更高的光掩模
平板显示器，MEMS器件，精细图案PCB/FPC/TAB，化合物半导体，薄膜电子元件等。
