– 国内专用-
全自动光掩膜清洗装置《TWC-200A》是一下子完全去除附着在掩模上的1μm以上的颗粒和抗蚀剂残渣的to盒的全自动光掩膜清洗装置。
干燥采用热纯水干燥，而不是传统的气刀干燥，并采用免调节设计，省去了水飞溅调节的麻烦。 热纯水干燥
对应的面罩尺寸，最多7英寸。专用盒最多可装20张。
| 电源 | 200V3相 |
|---|---|
| 尺寸 | 1,760mm(W) × 900mm(D) × 2,050mm(H) |
| 重量 | 约550公斤 |
・轻松去除附着在掩模上的抗蚀剂
・轻松移除蒙版上的粒子
・清洗液开发对环境友好的温和的水溶性药液
・从热硫酸和硫酸过水等危险中解脱出来
・不需要昂贵的去除剂和显影液
■设计规则L/S（线和空间）最适合清洗1微米或更高的光掩模
平板显示器，MEMS器件，精细图案PCB/FPC/TAB，化合物半导体，薄膜电子元件等。
