– 国内专用-
光掩模的清洁化是提高产品成品率的必要条件！
本发明公开了一种光掩模，该光掩模是通过在玻璃等上形成用于半导体制造工艺的图案而获得的，该光掩模的表面上附着有细小的灰尘等，该光掩模是通过在玻璃等上形成用于半导体制造工艺的图案而获得的。需要先进的清洁技术，因为粘附的灰尘和污物影响图案转移，并在很大程度上影响产量。本装置是药液兼用的掩模清洗装置。
附着在掩模上的抗蚀剂分为通常工艺附着的轻度污染、测试用途和长时间未清洗保管的使用履历不清楚的掩模等所看到的顽固污染两种。
通过使用适合污染程度的药液,可以节约时间、劳力、经费,提高清洗效率。
| 掩模尺寸 | 14英寸x 14英寸 |
|---|---|
| 设备尺寸 | 1,480mm(W) × 1,370mm(D) × 2,120mm(H) |
| 重量 | 约600公斤 |
■关键特性
| 特点 | |
|---|---|
| 1 | 用一台设备快速完成工件的擦洗，漂洗和干燥。 |
| 2 | 用擦洗清洗专用刷子，不划伤工件，可以进行精密清洗，没有清洗不均匀。 |
| 3 | 因为是立式处理，所以设计时不会给工件带来压力。 |
| 4 | 小批量，多品种，适用于研发应用的基板清洗。 |
| 5 | 干燥，热纯水干燥。 |
光掩模:半导体，液晶，有机EL，彩色滤光片，薄膜器件，IC封装，PWB，PCB，FPC等，板状基板等可清洗。